氫氟酸?(來源 維基百科) 是氟化氫 (HF) 在水中的溶液。大多數含氟化合物由它制成，包括如藥物氟西汀(百憂解)和聚四氟乙烯材料(特氟龍)。氟元素就是用它生產的。

石墨是半導體蝕刻酸相關應用的上佳選擇。因為成品酸不能含有任何一點金屬離子，這使得所有的金屬換熱器都不適用。
許多稀有金屬和合金在氟化物中會產生腐蝕。
PTFE內襯管道或柱往往會發生滲透，從而腐蝕鋼殼，而玻璃容易被氟化氫腐蝕。
我們的 GT KELITE+ 適用于濃度60% 溫度150°C 的氫氟酸溶液。對于高于以上條件的工況，可使用GT FLON 和 GT CARB+ 以滿足應用要求，最高可達280°C.
使用高濃度硫酸分離氟化氫的工藝會使用到GT OXY FLON 等級石墨。點擊這里 查看具體案例。

常用設備

GT BLOC
GT CUBIC
GT PLATE
GT TOWER (for phosphoric acid purification)

常用材料

GT FLON
GT KELITE+
GT CARB+

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